特別是在印制線路板高密度互連（HDI）板的制作中，需要進(jìn)行孔金屬化過(guò)程，使層與層之間通過(guò)金屬化的孔實(shí)現(xiàn)電氣導(dǎo)通。激光孔或者機(jī)械孔因?yàn)樵阢@孔過(guò)程中存在著局部高溫，使得在鉆孔后往往有殘留的膠狀物質(zhì)附在孔內(nèi)。為防止后續(xù)金屬化過(guò)程出現(xiàn)質(zhì)量問(wèn)題，金屬化過(guò)程之前必須將其除去。目前除鉆污過(guò)程主要有高錳酸鉀法等濕工序，由于藥液進(jìn)入孔內(nèi)有難度，其除鉆污效(果)具有局限性。等離子體清洗機(jī)作為一種干工序很好了解決了這個(gè)難題。

等離子進(jìn)行孔清洗，通常采用氧氣和四氟化碳的混合氣體作為氣源，為得到較好的處理(效)果，控制氣體比例是所生產(chǎn)的等離子體活性的決定因素。

      下面通過(guò)由氧氣和四氟化碳?xì)馑M成之混合氣體，舉例說(shuō)明等離子體處理之機(jī)理：
      PCB電路板等離子體處理的方法介紹
      （1）用途：
      1.凹蝕 / 去孔壁樹(shù)脂沾污；
      2.提高表面潤(rùn)濕性（聚四氟乙烯表面活(化)處理）；
      3.采用激光鉆孔之盲孔內(nèi)碳的處理；
      4.改變內(nèi)層表面形態(tài)和潤(rùn)濕性，提高層間結(jié)合力；
      5.去除抗蝕劑和阻焊膜殘留。
      （2）舉例：
      A.純聚四氟乙烯材料的活(化)處理
      對(duì)于純聚四氟乙烯材料的活(化)處理，是采用單步活(化)通孔工藝。所用氣體絕大部分是氫氣和氮?dú)獾慕M合。
      待處理板無(wú)需加熱，因?yàn)榫鬯姆蚁┍惶幚沓苫钚裕瑵?rùn)濕性有所增加。真空室一旦達(dá)到操作壓力，啟用工作氣體和射頻電源。
      大多數(shù)純聚四氟乙烯抄板的處理僅需約20分鐘。然而，由于聚四氟乙烯材料的復(fù)原性能（回復(fù)到不潤(rùn)濕表面狀態(tài)），化學(xué)沉銅之孔金屬化處理需在經(jīng)等離子體處理后的48小時(shí)內(nèi)完成。B.含填料聚四氟乙烯材料的活(化)處理
      對(duì)于含填料的聚四氟乙烯材料制造的印制電路板（如不規(guī)則的玻璃微纖維、玻璃編織增強(qiáng)和陶瓷填充之聚四氟乙烯復(fù)合物），需兩步處理。
      第(一)步.清潔和微蝕填料。該步典型之操作氣體為四氟化碳?xì)狻⒀鯕夂偷獨(dú)狻?br />       第二步.等同于前述純聚四氟乙烯材料表面活(化)處理所采用的一步法抄板工藝。
      等離子用于去除印制電路板制作一些工序中的非金屬殘留物，是一種很好的選擇。在圖形轉(zhuǎn)移工序中，貼壓干膜后的印制電路板經(jīng)曝光之后，需要進(jìn)行顯影蝕刻處理，去掉不需要干膜保護(hù)的銅區(qū)域，其過(guò)程為利用顯影液溶解掉未被曝光的干膜，以便在隨后的蝕刻過(guò)程蝕刻掉該未曝光干膜覆蓋的銅面。此顯影過(guò)程中，往往由于顯影缸噴管壓力不均等原因使得局部未曝光的干膜未能被全部溶解掉，形成殘留物。這種情況在精細(xì)線路的制作中更容易發(fā)生，在隨后的蝕刻后造成短路。采用等離子體處理可以很好的將干膜殘留物去掉。再者,在電路板貼裝元件時(shí),BGA等區(qū)域要求具有干凈的銅面，殘留物的存在影響焊接的可靠性。采用以空氣為氣源進(jìn)行等離子清洗，實(shí)踐證明了其可行性，達(dá)到了清洗的目的。