應用范圍

      真空等離子清洗機適用于印制線路板行業(yè)，半導體IC領域、硅膠、塑膠、聚合體領域，汽車電子行業(yè)，航空工業(yè)等。印制線路板行業(yè)：高頻板表面活化，多層板表面清潔、去鉆污,軟板、軟硬結合板表面清潔、去鉆污，軟板補強前活化。半導體IC領域：COB、COG、COF、ACF工藝，用于打線、焊接前的清洗；硅膠、塑膠、聚合體領域硅膠、塑膠、聚合體的等離子表面粗化、刻蝕、活化。
      真空式等離子清洗機系統(tǒng)廠家是運用氣體電離形成的等離子體對產品工件進行表面處理，不論是清洗還是表面活化，為了更好地取得優(yōu)質的處理效果，針對不同的產品需要挑選不一樣的加工工藝氣體，等離子清洗機常見的加工工藝氣體有氧氣(Oxygen,O2)，氬氣(Argon,Ar)，氮氣(Nitrogen,N2)，空氣壓縮(Compressed Air,CDA)，二氧化碳(Carbon,CO2)，氫氣(Hydrogen,H2)，四氟化碳(Carbontetrafluoride,CF4)等。

      1、氧氣
      氧是一種常見的等離子清洗活性氣體，這是屬于物理學+化學處理方法，被電離后離子化造成的離子能夠對表面進行物理學轟擊，產生不光滑粗糙的表面。此外，高活性氧離子能與被斷鍵的分子結構鏈產生化學反應，轉化成具備活性基的親水性表層，以完成表層活性的目的；而被斷鍵的有機污染物則能與活性氧離子產生化學反應，產生CO、CO2、H2O等分子脫離表層，完成表層清洗。氧關鍵用以高分子聚合物的表層活性和污染物的除去，但不可以用以于易氧化的金屬表層。在真空等離子下，氧等離子呈淺藍色，一部分充放電時呈乳白色；放電環(huán)境中光線較亮，用肉眼觀看時很有可能出現看不見真內腔內放電的狀況。
      2、氫氣
      氫與氧類似，是高活性氣體，能活化和清洗表層。氫和氧的差別關鍵取決于反應后產生的官能團不一樣，另外氫還具備還原性，可用于金屬表層的微觀氧化層除去，并且不易毀壞表層比較敏感的有機層。因而在微電子技術，半導體材料和pcb線路板加工制造業(yè)中運用較為普遍。因為氫是危險氣體，在沒有電離的狀況下易與氧氣融合會產生爆炸，因而在等離子清洗機中不允許這二種氣體混合使用。在真空等離子狀態(tài)中，氫等離子體為鮮紅色，與氬等離子體類似，要同樣放電環(huán)境下比氬等離子體顏色稍深。
      3、氮氣
      由氮氣電離而成的等離子體與一些分子產生鍵合反應，因而也是一種有活性氣體，可是相對于氧和氫而言，它的顆粒較重，在一般的等離子清洗機的運用中，這類氣體一般被界定在活性氣體氧、氫氣和稀有氣體氬氣之間的一種氣體。清洗活化時要做到一定的轟擊、蝕刻的效果，同時能避免一部分金屬表層產生空氣氧化。由氮氣和其他氣體混和而成的等離子體，一般用來處理一些特殊的材料。在真空腔體內，相同放電的情況下氮等離子會比氬、氫等離子亮度更亮一些。

等離子表面處理

       氧等離子體處理是目前常用的一種干法蝕刻方式。氧氣(有時與氬混合)被用來處理鋁，不銹鋼，玻璃，塑料和陶瓷的表面。

等離子活化
       稍微改變活化表面就可以進行更好的印刷或粘合。蝕刻機器可以讓等離子體侵蝕印刷電路板使其膠粘性能的提高，例如粘合性和可飾面性。

等離子表面改性

       等離子表面處理設備改性是指對產品進行清洗，以提高其印刷或粘接附著能力。等離子清洗的目的是去除表面有機污染物。等離子體處理你的產品表面，接受膠粘劑或印刷墨水。常用于聚四氟乙烯或塑料等離子體表面改性，實際上會改變材料的表面，使其留有自由基并粘附在膠或墨水上。