誠峰等離子體發生器在oled面板生產過程中起著相當關鍵的功效：
       通常，用于去除有機污染的等離子氣體主要由氧氣.Ar等組成。其中，Ar等離子體發生器方法主要是表層物理濺射。Ar離子在電場獲得足夠的能量轟擊表層，去除表層分子和原子，從表層去除污染物，提升表層粘附功能，改變表層粗糖含量。基于Ar是稀有氣體，不與材質表面反應，可以處理有些易被氧化物質的表層。但對表層也有很大的損傷和熱效應。

       氧氣等離子和氫氣等離子具有活性化學特性，是等離子體發生器清洗中非常典型的化學反應清洗。等離子體發生器處理能高效去除有機物，中性氧原子具有相當活性的化學特性，能迅速與有機污染反應，產生揮發性氣體(CO.CO2和H2O脫離物體表層，但該方法不適合處理易被氧化材質。氫氣等離子通過活性H原子的還原，可以比較容易地去除金屬表面的被氧化層，也可以與有機碳氧化合物反應產生揮發性物質，如CH4?；瘜W清洗的優點是速度快，選擇性好。
在包裝過程中，設備和材質表層的各種污染會明顯影響包裝制造和產品品質，常壓等離子清洗技術，不受真空泵條件的限定，容易去除生產過程中產生的分子水平污染，明顯提升包裝的可靠性和商品合格率。它可以集成到自動生產線上，以清潔高一代和大型基板。
       在生產過程中，光刻技術占很大比例。為了更好地在基板上產生圖形化，須要運用很多的光刻膠。當光刻膠沉積在機器設備上時，不僅會影響設備的運行，而且會加速設備的老化，須要定期清洗。常規清洗須要拆卸設備，相當不方便。常壓等離子噴槍的等離子射流可以比較容易地處理有些難以到達的空隙。
       等離子體發生器在oled面板生產過程中起著相當關鍵的功效，但常規等離子體發生器受到真空泵條件和腔容量的限定，無法處理大型基板和不規則部件。常壓等離子清洗機突破了真空泵限定，具有廣泛的發展前途。